Закономерности формирования наноструктурных гетеросистем «медь – оксид меди (I)»
Abstract
В работе представлены результаты цикла исследований, направленных на выяснение природы и закономерностей процессов, протекающих в условиях атмосферы в тонких слоях меди, в зависимости от толщины материала, температуры и времени теплового воздействия. В результате исследований установлено, что скорость роста окисной пленки на поверхности пленок меди толщиной dn < 4 нм, dn < 50 нм, dn < 6⋅10-8 м и dn < 140 нм остается практически неизменной. Толщина оксидной пленки, образующейся на поверхности пленок меди (установленных размеров и подвергаемых термической обработке при соответствующих температурах), будет пропорциональна времени окисления. По мере увеличения толщины пленок меди в результате термической обработки при разных температурах, кинетические кривые их окисления удовлетворительно описываются в рамках параболического и логарифмического законов. Для пленок меди толщиной dn < 50 нм в результате химической коррозии будут формироваться сплошные оксидные пленки, и процесс коррозии будет тормозиться диффузией ионов меди через оксидную пленку, дальнейший рост которой будет замедляться при увеличении толщины оксидной пленки.
About the Authors
Эдуард Суровой
Кемеровский государственный университет
Russian Federation
Russian Federation
Наталья Борисова
Кемеровский государственный университет
Russian Federation
Russian Federation
Илья Титов
Кемеровский государственный университет
Russian Federation
Russian Federation
References
1. Томашов Н. Д. Теория коррозии и защиты металлов. М.: Изд-во АН СССР, 1960. 592 с.
2. Бахвалов Г. Т. Защита металлов от коррозии. М: Металлургия, 1964. 288 с.
3. Стриха В. И., Бузанева Е. В. Физические основы надежности контактов металл-полупроводник в интегральной электронике. М.: Радио и связь, 1987. 254 с.
4. Спиридонов А. В. Современное состояние и перспективы совершенствования светопрозрачных ограждений // Строительные материалы. 1998. № 7. С. 4–6.
5. Индутный И. З., Костышин М. Т., Касярум О. П., Минько В. И., Михайловская Е. В., Романенко П. Ф. Фотостимулированные взаимодействия в структурах металл полупроводник. Киев: Наукова думка, 1992. 240 с.
6. Суровой Э. П., Сирик С. М., Бугерко Л. Н. Фотолиз гетеросистем AgN3(A) Металл // Химическая физика. 2000. Т. 19. № 8. С. 22–25.
7. Суровой Э. П., Шурыгина Л. И., Бугерко Л. Н. Фотолиз гетеросистем азид таллия металл // Химическая физика. 2001. Т. 20. № 12. С. 15–22.
8. Суровой Э. П., Бугерко Л. Н., Расматова С. В. Фотолиз гетеросистем «азид свинца кадмий» // Известия Томского политехнического университета. 2004. Т. 307. № 2. С. 95–99.
9. Бескислородная медь / под ред. А. А. Преснякова. Алма-Ата: Наука, 1985. 136 с.
10. Технология тонких пленок / под ред. Л. Майссела, Р. Гленга. М.: Советское радио, 1977. Т. 1 664 с.
11. Минайчев В. Е. Нанесение пленок в вакууме. М.: Высшая школа, 1989. 110 с.
12. Лазарев В. Б., Соболев В. В., Шаплыгин И. С. Химические и физические свойства простых оксидов металлов. М.: Наука, 1983 239 с.
13. Вертопрахов В. Н., Сальман Е. Г. Термостимулированные токи в неорганических веществах. Новосибирск: Наука, 1979 336 с.
14. Бьюб Р. Фотопроводимость твердых тел. М.: Иностр. лит., 1962. 559 с.
Review
For citations:
, , . SibScript. 2006;(2):103-107. (In Russ.)
Views:
31
Email this article 