<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<!DOCTYPE article PUBLIC "-//NLM//DTD JATS (Z39.96) Journal Publishing DTD v1.3 20210610//EN" "JATS-journalpublishing1-3.dtd">
<article article-type="research-article" dtd-version="1.3" xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" xmlns:xlink="http://www.w3.org/1999/xlink" xmlns:xsi="http://www.w3.org/2001/XMLSchema-instance" xml:lang="ru"><front><journal-meta><journal-id journal-id-type="publisher-id">kemsu</journal-id><journal-title-group><journal-title xml:lang="ru">СибСкрипт</journal-title><trans-title-group xml:lang="en"><trans-title>SibScript</trans-title></trans-title-group></journal-title-group><issn pub-type="ppub">2949-2122</issn><issn pub-type="epub">2949-2092</issn><publisher><publisher-name>Kemerovo State University</publisher-name></publisher></journal-meta><article-meta><article-id custom-type="elpub" pub-id-type="custom">kemsu-4810</article-id><article-categories><subj-group subj-group-type="heading"><subject>Research Article</subject></subj-group><subj-group subj-group-type="section-heading" xml:lang="ru"><subject>Химия</subject></subj-group><subj-group subj-group-type="section-heading" xml:lang="en"><subject>CHEMISTRY</subject></subj-group></article-categories><title-group><article-title>Кинетические закономерности фототока в системах А1 – WО3 – А1</article-title><trans-title-group xml:lang="en"><trans-title></trans-title></trans-title-group></title-group><contrib-group><contrib contrib-type="author" corresp="yes"><name-alternatives><name name-style="eastern" xml:lang="ru"><surname>Бин</surname><given-names>С. В.</given-names></name></name-alternatives><email xlink:type="simple">peen@ngs.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff-1"/></contrib><contrib contrib-type="author" corresp="yes"><name-alternatives><name name-style="eastern" xml:lang="ru"><surname>Суровой</surname><given-names>Э. П.</given-names></name></name-alternatives><email xlink:type="simple">epsur@kemsu.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff-1"/></contrib></contrib-group><aff-alternatives id="aff-1"><aff xml:lang="ru">КемГУ<country>Россия</country></aff></aff-alternatives><pub-date pub-type="collection"><year>2007</year></pub-date><pub-date pub-type="epub"><day>20</day><month>11</month><year>2020</year></pub-date><volume>0</volume><issue>3</issue><fpage>80</fpage><lpage>84</lpage><permissions><copyright-statement>Copyright &amp;#x00A9; Бин С.В., Суровой Э.П., 2021</copyright-statement><copyright-year>2021</copyright-year><copyright-holder xml:lang="ru">Бин С.В., Суровой Э.П.</copyright-holder><copyright-holder xml:lang="en">Бин С.В., Суровой Э.П.</copyright-holder><license license-type="creative-commons-attribution" xlink:href="https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/" xlink:type="simple"><license-p>This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 License.</license-p></license></permissions><self-uri xlink:href="https://www.sibscript.ru/jour/article/view/4810">https://www.sibscript.ru/jour/article/view/4810</self-uri><abstract><p>Установлено, что независимо от величины и полярности внешнего электрического поля темновой ток в системах Al – WО3 – Al значительно превышает темновой ток в системе А1 – стекло – А1. Установлено, что стационарное значение фототока системы Al – WО3 – Al на 5 порядков превышает значение темнового тока этой же системы. Регистрируемый в системе Al – WО3 – Al фототок определяется генерацией фотоносителей зарядов непосредственно в пленках W О3 и не зависит от фототока в системе А1 – стекло - А1 при воздействии света. Темновая релаксация фототока в системах Al – WО3 – Al происходит в течение 240 часов.</p></abstract><kwd-group xml:lang="ru"><kwd>пленки</kwd><kwd>наносистемы</kwd><kwd>электроды</kwd><kwd>химия твердого тела</kwd><kwd>физика твердого тела</kwd></kwd-group></article-meta></front><back><ref-list><title>References</title><ref id="cit1"><label>1</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Третьяков Ю. Д. Химия нестехиометрических окислов. М.: Изд-во Московского ун-та, 1974. 364 с.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Третьяков Ю. Д. Химия нестехиометрических окислов. М.: Изд-во Московского ун-та, 1974. 364 с.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit2"><label>2</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Лазарев В. Б., Соболев В. В., Шаплыгин И. С. Химические и физические свойства простых оксидов металлов. М.: Наука, 1983. 239 с.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Лазарев В. Б., Соболев В. В., Шаплыгин И. С. Химические и физические свойства простых оксидов металлов. М.: Наука, 1983. 239 с.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit3"><label>3</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Васько А. Т. Электрохимия молибдена и вольфрама. Киев: Наукова думка, 1977. 172 с.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Васько А. Т. Электрохимия молибдена и вольфрама. Киев: Наукова думка, 1977. 172 с.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit4"><label>4</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Tubbs М. R. Optical Properties, Photographic and Holographic Applications of Photochromic and Electrochromic Layers // Brit. J. Appl. Phys. 1964. V. 15. P. 181.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Tubbs М. R. Optical Properties, Photographic and Holographic Applications of Photochromic and Electrochromic Layers // Brit. J. Appl. Phys. 1964. V. 15. P. 181.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit5"><label>5</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Рамане Г. M. Структура и морфология аморфных пленок триоксида вольфрама и молибдена // Электрохромизм. Рига: ЛГУ им. П. Стучки, 1987. С. 143.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Рамане Г. M. Структура и морфология аморфных пленок триоксида вольфрама и молибдена // Электрохромизм. Рига: ЛГУ им. П. Стучки, 1987. С. 143.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit6"><label>6</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Maosong Tong. Guorui Dai. W03 thin film prepared by PECVD technique and its gas sensing properties to N02 // J. Materials Science. 2001. V. 36. P. 2535.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Maosong Tong. Guorui Dai. W03 thin film prepared by PECVD technique and its gas sensing properties to N02 // J. Materials Science. 2001. V. 36. P. 2535.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit7"><label>7</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Андреев В. H., Никитин С. Е. Фотохромный эффект в клаг стерных системах оксидов // Физика твердого тела. 1999. Т.41. Вып. 7. С. 1323–1328.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Андреев В. H., Никитин С. Е. Фотохромный эффект в клаг стерных системах оксидов // Физика твердого тела. 1999. Т.41. Вып. 7. С. 1323–1328.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit8"><label>8</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Лусис А. Р. Электрохромный эффект и электрохромные материалы: физика и применение // Оксидные электрохромные материалы: межвуз. сб. научн. трудов. Рига: Изд-во ЛГУ им. П. Стучки, 1981. С. 13–37.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Лусис А. Р. Электрохромный эффект и электрохромные материалы: физика и применение // Оксидные электрохромные материалы: межвуз. сб. научн. трудов. Рига: Изд-во ЛГУ им. П. Стучки, 1981. С. 13–37.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit9"><label>9</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Лусис А. Р., Клявинъ Я. К., Миколайтис В. А. Электрохромные свойства тонких слоев трехокиси вольфрама // Учен. зап. ЛГУ. Рига: ЛГУ им. П. Стучки, 1974. С. 169–174.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Лусис А. Р., Клявинъ Я. К., Миколайтис В. А. Электрохромные свойства тонких слоев трехокиси вольфрама // Учен. зап. ЛГУ. Рига: ЛГУ им. П. Стучки, 1974. С. 169–174.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit10"><label>10</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Гуревич Ю. Я. Твердые электролиты. М.: Наука, 1986. 176 с.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Гуревич Ю. Я. Твердые электролиты. М.: Наука, 1986. 176 с.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit11"><label>11</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Лусис А. Р., Клеперис Я. Я. Электрохромные зеркала - твердотельные ионные устройства // Электрохимия. 1992. Т. 28. Вып. 10. С. 1450–1455.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Лусис А. Р., Клеперис Я. Я. Электрохромные зеркала - твердотельные ионные устройства // Электрохимия. 1992. Т. 28. Вып. 10. С. 1450–1455.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit12"><label>12</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Суровой Э. П., Хамитов М. М., Шустов М. А., Баранников А. В. Направленное регулирование фоточувствительности окиси вольфрама // Бессеребряные и необычные фотопроцессы: тезисы докл. III Всесоюзн. конф. Вильнюс, 1980. С. 199–200.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Суровой Э. П., Хамитов М. М., Шустов М. А., Баранников А. В. Направленное регулирование фоточувствительности окиси вольфрама // Бессеребряные и необычные фотопроцессы: тезисы докл. III Всесоюзн. конф. Вильнюс, 1980. С. 199–200.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit13"><label>13</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Бин С. В., Борисова Н. В., Суровой Э. П., Титов И. В. Исследование релаксации тока в наноразмерных системах медь - оксид вольфрама (VI) - медь // Материаловедение. 2007. №4. С. 23–29.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Бин С. В., Борисова Н. В., Суровой Э. П., Титов И. В. Исследование релаксации тока в наноразмерных системах медь - оксид вольфрама (VI) - медь // Материаловедение. 2007. №4. С. 23–29.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit14"><label>14</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Технология тонких пленок / под ред. Л. Майссела, Р. Гленга. Т. 1. М.: Советское радио, 1977. 664 с.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Технология тонких пленок / под ред. Л. Майссела, Р. Гленга. Т. 1. М.: Советское радио, 1977. 664 с.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit15"><label>15</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Борисова Н. В., Суровой Э. П., Титов И. В. Формирование систем «медь-оксид меди (I)» в процессе термической обработки пленок меди // Материаловедение. 2006. №7. С. 16–20.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Борисова Н. В., Суровой Э. П., Титов И. В. Формирование систем «медь-оксид меди (I)» в процессе термической обработки пленок меди // Материаловедение. 2006. №7. С. 16–20.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit16"><label>16</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Томашов Н. Д. Теория коррозии и защиты металлов. М.: Изд-во АН СССР, 1960. 592 с.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Томашов Н. Д. Теория коррозии и защиты металлов. М.: Изд-во АН СССР, 1960. 592 с.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit17"><label>17</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Титов И. В. Исследование процесса окисления наноразмерных слоев меди: автореф. дис. ... канд. хим. наук. Кемерово: КемГУ, 2006. 21 с.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Титов И. В. Исследование процесса окисления наноразмерных слоев меди: автореф. дис. ... канд. хим. наук. Кемерово: КемГУ, 2006. 21 с.</mixed-citation></citation-alternatives></ref></ref-list><fn-group><fn fn-type="conflict"><p>The authors declare that there are no conflicts of interest present.</p></fn></fn-group></back></article>
